等离子刻蚀是干法刻蚀中最常见的一种形式。一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下(如射频、微波等)形成等离子体。其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体1.刻蚀机理等离子刻蚀是采用高频辉光放电反应，使反应气体激活成活性粒子，如原子或游离基，这些活性粒子扩散到需刻蚀的部位，在那里与被刻蚀材料进行反应，形成挥发性反应物而被去除。
￣□￣｜｜ 等离子刻蚀的原理可以概括为以下几个步骤：● 在低压下，反应气体在射频功率的激发下，产生电离并形成等离子体，等相比于RIE（等离子体刻蚀），电感耦合等离子体（ICP）刻蚀还是具有如下的优势：另外ICP刻蚀的过程中，氦气是非常重要的气体，氦气在ICP刻蚀的机器中其冷却原理：由氦气良好的热传导
(ˉ▽ˉ；) 等离子刻蚀的原理可以概括为以下几个步骤：● 在低压下，反应气体在射频功率的激发下，产生电离并形成等离子体，等离子体是由带电的电子和离子组成，反应腔体中的•气体从常态到等离子体的转变，也是从绝缘体到导体的转变.•Plasma一些例子：荧光灯，闪电，太阳等.egas energy plasma e e e整理课件3 为什么Plasma运用在干法刻蚀中•Plasma产生激活态的粒子以及
等离子体刻蚀机原理蚀等离子体刻机原理什么是等离子体？▪随着温度的升高，一般物质依次表现为固体、液体和气体。它们统称为物质的三态。▪当气体的温度进一步升高时，其一、等离子刻蚀工艺原理1、什么是等离子Plasma就是等离子体(台湾一般称为电浆),由气体电离后产生的正负带电离子以及分子，原子和原子团组成只有强电场作用下雪崩电离发生时，Plasma
